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產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION

管式爐

單溫區(qū)管式爐多溫區(qū)管式爐旋轉(zhuǎn)管式爐混合箱/管式爐立式（垂直）管式爐超聲熱化分解爐氫氣爐高溫高壓爐 PECVD系統(tǒng) 高通量爐
箱式爐（馬弗爐）系列

400℃-1200℃箱式爐 1300℃-1500℃箱式爐 1600℃-1700℃箱式爐 1750℃箱式爐 1800℃箱式爐真空/氫氣/氣氛爐混合爐實(shí)驗(yàn)微波爐排膠爐井式爐
合肥科晶總代理

CVD 真空氣氛管式爐鈣鈦礦太陽(yáng)能電池實(shí)驗(yàn)室制備線退火爐晶體及材料新型設(shè)備真空管式爐研磨拋光機(jī)系列金剛石線切割機(jī)系列真空感應(yīng)熔煉爐材料、混料、球磨設(shè)備等離子清洗機(jī)系列壓力機(jī)系列干燥箱系列手套箱系列電池制備全套設(shè)備及解決方案薄膜制備全套設(shè)備及解決方案
電池測(cè)試恒溫箱
切割機(jī)

外圓切割機(jī) 劃片切割機(jī) 金剛石帶鋸金剛石線切割機(jī) 取樣機(jī) 切割輔助工具
研磨拋光機(jī)

自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī) 精密研磨拋光機(jī) 化學(xué)機(jī)械磨拋機(jī) 全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng) 震動(dòng)拋光機(jī) 雙面研磨拋光機(jī) 電解拋光儀
熔煉/鍛造爐

電加熱熔煉系列甩帶爐系列懸浮熔煉爐系列電弧熔煉系統(tǒng) 感應(yīng)熔煉爐鍛造爐系列
清洗設(shè)備

晶圓清洗機(jī) 顯影清洗機(jī) 紫外臭氧清洗等離子清洗超聲波清洗
CVD氣相沉積

ALD管式爐系統(tǒng) CVD石墨烯和納米管生長(zhǎng)爐等離子體增強(qiáng)CVD管爐高真空CVD系統(tǒng) 低真空CVD系統(tǒng)
制膜設(shè)備

鈣鈦礦鍍膜機(jī) 蒸發(fā)鍍膜磁控濺射鍍膜等離子濺射鍍膜超聲霧化噴霧熱解靜電紡絲旋轉(zhuǎn)涂膜勻膠機(jī) 刮膜機(jī) 提拉涂膜機(jī)
混料球磨設(shè)備

研磨介質(zhì)/研磨罐漿料混合瑪瑙碾磨混料/球磨破碎/研磨/篩分
雷博科學(xué)儀器

太陽(yáng)能薄膜制備電鏡樣品制備溶液制備反應(yīng)釜檢測(cè)設(shè)備工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備
實(shí)驗(yàn)室冷藏

車(chē)載冰箱系列藥品冷藏生物制品，試劑藥品恒溫箱 2-8℃制品冷藏箱 -25℃低溫保存箱 -40℃低溫保存箱 GSP藥品保存箱 -86℃超低溫保存箱
天平衡器

奧豪斯梅特勒分析天平精密天平微量天平機(jī)械天平扭力天平
干燥設(shè)備

自然對(duì)流烘箱消化爐馬弗爐電熱鼓風(fēng)干燥箱真空干燥箱熱空氣消毒箱
器皿清洗，凍干，封存

玻璃器皿清洗機(jī) 冷凍干燥機(jī)
培養(yǎng)箱

恒溫培養(yǎng)箱霉菌培養(yǎng)箱生化培養(yǎng)箱光照培養(yǎng)箱恒溫恒濕箱隔水式培養(yǎng)箱氣候培養(yǎng)箱振蕩培養(yǎng)箱二氧化碳培養(yǎng)箱
反應(yīng)儀器

多功能反應(yīng)器旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀翻轉(zhuǎn)振蕩器搖床磁力攪拌器電動(dòng)攪拌器
光譜儀器

專(zhuān)用光譜分析系統(tǒng) 紫外可見(jiàn)分光光度計(jì) 原子吸收分光光度計(jì) 原子熒光光度計(jì) 分光光度計(jì) 火焰光度計(jì)
低溫恒溫設(shè)備

干式恒溫器恒溫水浴恒溫油槽恒溫水溫箱
生命科學(xué)類(lèi)

凝膠成像系統(tǒng) 自動(dòng)酶標(biāo)儀電泳儀電泳儀電源冷卻循環(huán)水基因擴(kuò)增儀核酸提取儀
生化分析類(lèi)

水質(zhì)分析儀移液器純化水器超純水器高速離心機(jī)（臺(tái)式、冷凍、大容量）低速離心機(jī)（臺(tái)式、冷凍、大容量）自動(dòng)脫帽離心機(jī) 過(guò)濾離心機(jī) 石油離心機(jī) 乳脂離心機(jī) 超聲波清洗器超聲波處理器蒸餾水器瓶口分液器
環(huán)境監(jiān)測(cè)

手持振動(dòng)測(cè)量?jī)x器電聲測(cè)量?jī)x器建筑聲學(xué)測(cè)量?jī)x器多通道噪聲振動(dòng)分析儀環(huán)境噪聲自動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng) 聲級(jí)計(jì)和噪聲測(cè)量分析儀器
電化學(xué)分析

消解器電位儀酸度計(jì) 滴定儀電導(dǎo)率儀
食品安全

多功能食品安全檢測(cè)儀食品安全檢測(cè)箱食品安全儀器 CNY農(nóng)殘留速測(cè)儀
光學(xué)儀器類(lèi)

比色計(jì) 色度儀光澤度計(jì) 白度計(jì) 濁度儀
色譜類(lèi)儀器

在線離子色譜儀氣相色譜儀高效液相色譜儀
全自動(dòng)熱解吸儀

二次熱解吸儀 ATDS熱解吸儀
氣體發(fā)生器

氫氣發(fā)生器氮?dú)獍l(fā)生器空氣發(fā)生器氫空一體機(jī) 氮?dú)淇找惑w機(jī) CO2測(cè)定儀
除濕凈化儀器

空氣凈化器空氣消毒機(jī) 滅菌器凈化工作臺(tái) 生物安全柜
顯微鏡

生物顯微鏡
物性測(cè)定

硬度計(jì) 粘度計(jì) 熔點(diǎn)儀全自動(dòng)折光儀全自動(dòng)旋光儀數(shù)顯阿貝折射儀
糧油類(lèi)儀器

纖維測(cè)定儀定氮儀脂肪測(cè)定儀
實(shí)驗(yàn)室耗材

進(jìn)口封裝試劑光譜顯色劑 LECO（力可）配件耗材 ThermoFisher配件耗材 dionex（戴安）配件耗材 perkinelmer（PE）配件耗材安捷倫微量樣品瓶存儲(chǔ)瓶
數(shù)據(jù)管理譜圖分析系列

數(shù)據(jù)管理譜圖解析
水質(zhì)在線監(jiān)測(cè)設(shè)備二
隔音設(shè)備系列

隔音箱
超純水系列

中端超純水機(jī) 經(jīng)濟(jì)型超純水機(jī) *超純水機(jī) 標(biāo)準(zhǔn)型超純水機(jī)
高純水系列

組織培養(yǎng)型CT系列生化分析型CS系列
High-touch超純水系列

生命科學(xué)型基礎(chǔ)型痕量有機(jī)型分子生物型
松下冷鏈產(chǎn)品系列

GSP藥品陰涼保存箱醫(yī)用藥品保存箱醫(yī)用試劑保存箱
振蕩培養(yǎng)箱系列

通用氣浴振蕩培養(yǎng)箱光照振蕩培養(yǎng)箱疊加式振蕩培養(yǎng)箱高速振蕩培養(yǎng)箱二氧化碳振蕩培養(yǎng)箱
電化學(xué)工作站
反應(yīng)釜系列

更多定制產(chǎn)品請(qǐng)咨詢(xún)... 水熱反應(yīng)釜機(jī)械攪拌反應(yīng)釜磁力攪拌反應(yīng)釜

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1700℃真空氣氛管式爐

1700℃真空氣氛管式爐主要特點(diǎn):爐膛頂部安裝防爆機(jī)械排氣閥;帶過(guò)電流過(guò)電壓保護(hù),漏電保護(hù)電氣元件及電纜,冷壓端子均符合UL認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn);針對(duì)于材料在惰性氣體環(huán)境進(jìn)行燒結(jié)或是退火,其最高溫度可高達(dá)1700...

自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)

UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于各種材料的研磨與拋光，本機(jī)設(shè)置了Ø203mm的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤Ø80mm的平面。UNIPOL-802自動(dòng)精密研...

產(chǎn)品展示Product display

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FMF-10小型懸浮真空感應(yīng)熔煉爐
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公司新聞/News

技術(shù)文章/Article

2024-09-16
提高研磨拋光機(jī)效率的實(shí)用建議
研磨拋光機(jī)是制造業(yè)中的重要設(shè)備，廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、玻璃等材料的表面處理。為了提高生產(chǎn)效率和降低成本，以下是一些實(shí)用的改進(jìn)建議。一、優(yōu)化工藝流程先要對(duì)整個(gè)研磨拋光工藝流程進(jìn)行全面梳理和優(yōu)化。明確每個(gè)工序的目標(biāo)和要求，合理安排工序順序，減少不必要的中間環(huán)節(jié)。同時(shí)，引入自動(dòng)化和智能化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)線的高效運(yùn)轉(zhuǎn)。二、選用合適的研磨拋光材料選擇合適的研磨拋光材料是提高效率的關(guān)鍵。根據(jù)待處理材料的性質(zhì)和要求，選擇具有適當(dāng)硬度、粒度和形狀的磨料。同時(shí)，合理控制磨料的濃度和供給量，以確保...
2024-09-14
如何優(yōu)化真空感應(yīng)熔煉爐的操作流程？
真空感應(yīng)熔煉爐是一種熔煉設(shè)備，廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車(chē)制造、機(jī)械工程等領(lǐng)域。為了提高生產(chǎn)效率、降低成本并確保產(chǎn)品質(zhì)量，優(yōu)化操作流程至關(guān)重要。以下是一些建議和措施，以幫助您優(yōu)化操作流程。一、前期準(zhǔn)備1.設(shè)備檢查與維護(hù)在開(kāi)始熔煉之前，務(wù)必對(duì)真空感應(yīng)熔煉爐進(jìn)行全面檢查，確保設(shè)備處于良好狀態(tài)。檢查內(nèi)容包括電氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)等。定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)，以延長(zhǎng)使用壽命。2.原材料準(zhǔn)備確保原材料的質(zhì)量符合要求，避免因雜質(zhì)過(guò)多或成分不均導(dǎo)致熔煉失敗，對(duì)原材料進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理。二、操...
2024-09-02
真空感應(yīng)熔煉爐的能源消耗與成本控制
真空感應(yīng)熔煉爐是一種高效、節(jié)能的金屬熔煉設(shè)備，廣泛應(yīng)用于航空航天、冶金、機(jī)械制造等領(lǐng)域。一、能源消耗特點(diǎn)真空感應(yīng)熔煉爐的能源消耗主要包括電能、燃料消耗和輔助設(shè)備能耗等。其中，電能是主要的能源消耗部分，主要用于加熱、攪拌和真空抽氣等過(guò)程。燃料消耗主要發(fā)生在需要輔助加熱的情況下。輔助設(shè)備能耗則包括水泵、風(fēng)機(jī)、冷卻系統(tǒng)等的能耗。二、影響能源消耗的因素能源消耗受到多種因素的影響，如熔煉材料的種類(lèi)和性質(zhì)、熔煉工藝參數(shù)、設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造水平、操作人員的技能水平等。因此，在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，...
2024-08-21
PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積設(shè)備的選擇與維護(hù)指南
在半導(dǎo)體和材料科學(xué)領(lǐng)域，PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積技術(shù)，扮演著至關(guān)重要的角色。選擇合適的設(shè)備并對(duì)其進(jìn)行規(guī)范維護(hù)是確保生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素。選擇設(shè)備時(shí)，應(yīng)考慮其反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì)是否符合生產(chǎn)需求，真空系統(tǒng)是否能快速達(dá)到所需真空度并保持穩(wěn)定，以及氣體分配系統(tǒng)是否能夠確保氣體均勻分布。氣體流量控制器的精確性對(duì)于薄膜的均勻性和重復(fù)性同樣重要。此外，射頻發(fā)生器的功率穩(wěn)定性和電極設(shè)計(jì)也直接影響到薄膜的質(zhì)量。維護(hù)PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積設(shè)備需遵循嚴(yán)格的操作流程。每日檢查包括確...
2024-08-12
CVD氣相沉積的原理與應(yīng)用說(shuō)明
CVD氣相沉積是一種重要的材料制備技術(shù)，廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、納米科技等領(lǐng)域。通過(guò)CVD技術(shù)，可以在各種基底上沉積出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料。一、原理CVD氣相沉積的基本原理是將氣態(tài)前驅(qū)體導(dǎo)入反應(yīng)室，在熱激發(fā)或等離子激活的作用下，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成固態(tài)物質(zhì)，并沉積在基底上形成薄膜。根據(jù)反應(yīng)條件的不同，CVD技術(shù)可以分為熱CVD、等離子體增強(qiáng)CVD（PECVD）、激光誘導(dǎo)CVD等多種類(lèi)型。在熱CVD中，反應(yīng)室被加熱至高溫，使氣態(tài)前驅(qū)體發(fā)生熱分解或化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)沉積物。而在...
2024-08-06
如何正確操作和維護(hù)真空氣氛管式爐？
真空氣氛管式爐是一種實(shí)驗(yàn)設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)工程等領(lǐng)域。為了確保其正常運(yùn)行和延長(zhǎng)使用壽命，需掌握正確的操作方法和維護(hù)技巧。一、操作前準(zhǔn)備檢查電源、水源和氣源是否正常，確保管路無(wú)泄漏。檢查真空泵油是否充足，如有不足請(qǐng)及時(shí)添加。檢查爐體內(nèi)部是否干凈，如有雜物請(qǐng)及時(shí)清理。根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，準(zhǔn)備好所需的樣品和試劑。二、操作步驟打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)，設(shè)定溫度和時(shí)間參數(shù)。開(kāi)啟真空泵，對(duì)爐體進(jìn)行抽真空處理，確保爐內(nèi)真空度達(dá)到要求。通入所需氣氛氣體，調(diào)整氣體流量至合適范圍。將樣品放入爐膛中部，...
2024-07-23
了解研磨拋光機(jī)的操作規(guī)程與安全指南
研磨拋光機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、玻璃等表面加工的設(shè)備。為了確保操作人員的安全和設(shè)備的正常運(yùn)行，需嚴(yán)格遵守操作規(guī)程和安全指南。一、操作規(guī)程開(kāi)機(jī)前準(zhǔn)備：檢查電源線、插頭和插座是否完好無(wú)損。確保轉(zhuǎn)速與所加工的材料相匹配。安裝好所需的研磨拋光片或磨頭。清潔工作臺(tái)和周?chē)鷧^(qū)域，確保無(wú)雜物干擾操作。開(kāi)機(jī)操作：打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)，檢查電機(jī)是否正常運(yùn)轉(zhuǎn)。調(diào)整轉(zhuǎn)速，使其達(dá)到所需的工作速度。將工件放置在工作臺(tái)上，固定好夾具。開(kāi)啟拋光機(jī)，按照工藝要求進(jìn)行操作。加工過(guò)程中注意事項(xiàng)：保持穩(wěn)定的操作姿勢(shì)，...
2024-07-09
真空管式爐在金屬熱處理工藝中的優(yōu)勢(shì)說(shuō)明
金屬熱處理工藝是提升金屬材料性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，而真空管式爐在這一領(lǐng)域扮演著舉足輕重的角色。其結(jié)構(gòu)和加熱方式，使得金屬熱處理在精度、效率和質(zhì)量上得到了顯著提升。1、更大優(yōu)勢(shì)在于其提供了一個(gè)真空的加熱環(huán)境。在真空狀態(tài)下，金屬表面不會(huì)與氧氣、水蒸氣等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而避免了氧化和脫碳現(xiàn)象的發(fā)生。這對(duì)于需要保持金屬純凈度和表面光潔度的熱處理工藝來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。在不銹鋼的熱處理中，能夠有效防止不銹鋼表面產(chǎn)生氧化層，確保其耐腐蝕性能不受影響。2、加熱效率較高。由于采用了加熱元件和保溫材料，能...

2024-10-09
CVD氣相沉積薄膜生長(zhǎng)過(guò)程
CVD（ChemicalVaporDeposition，化學(xué)氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過(guò)將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物，在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏設(shè)備、涂層和材料科學(xué)等領(lǐng)域。主要特點(diǎn)：1、CVD可以在不同的基材表面沉積高純度的薄膜，且厚度均勻，適用于精細(xì)的電子器件和高質(zhì)量涂層。2、通過(guò)化學(xué)反應(yīng)生成的薄膜通常與基材具有良好的附著力，這使得薄膜在使用過(guò)程中不易剝落。3、CVD技術(shù)能夠在復(fù)雜形狀的基材上形成均勻的涂層，包括在深孔和狹縫中，這...
2024-09-26
PCVD工藝的具體流程
PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是一種利用等離子體來(lái)促進(jìn)氣體反應(yīng)的CVD技術(shù)。其特點(diǎn)包括：1、低溫沉積：PECVD可以在較低的基材溫度下進(jìn)行，因?yàn)榈入x子體提供的能量能夠促進(jìn)氣體反應(yīng)，降低沉積溫度的需求。2、高沉積速率：等離子體增強(qiáng)了氣體反應(yīng)速率，從而提高了薄膜沉積速率。3、良好的膜質(zhì)量：PECVD沉積的薄膜通常具有較好的均勻性和較低的缺陷密度，適用于需要高質(zhì)量薄膜的應(yīng)用。4、適應(yīng)性強(qiáng)：可以沉積多種材料，包括氧化物、氮化物和氟化物等，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電器件和保護(hù)涂層等領(lǐng)域...
2024-09-23
安全使用真空氣氛管式爐的注意事項(xiàng)
真空氣氛管式爐是一種加熱設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)工程等領(lǐng)域。一、設(shè)備安裝與調(diào)試1.安裝環(huán)境確保它安裝在干燥、通風(fēng)良好且無(wú)振動(dòng)的環(huán)境中。避免陽(yáng)光直射和高溫環(huán)境，以免影響設(shè)備的正常運(yùn)行。2.接地與電源檢查設(shè)備的接地是否牢固可靠，確保在意外情況下能有效防止觸電事故。同時(shí)，確認(rèn)電源電壓與設(shè)備額定電壓相符，避免因電壓不穩(wěn)導(dǎo)致設(shè)備損壞。3.調(diào)試與檢查在正式投入使用前，進(jìn)行空載試運(yùn)行，觀察設(shè)備運(yùn)行是否正常。檢查各部件連接是否緊固，密封性能是否良好，以確保設(shè)備的安全性能。二、操作過(guò)程中...
2024-09-19
CVD氣相沉積在光電器件中的應(yīng)用前景
一、CVD技術(shù)概述CVD是一種在氣相中進(jìn)行的沉積工藝，利用化學(xué)反應(yīng)將氣態(tài)前驅(qū)體轉(zhuǎn)化為固態(tài)薄膜。該過(guò)程能夠在各種基材上沉積高質(zhì)量的薄膜，具有優(yōu)異的致密性和均勻性。CVD技術(shù)的優(yōu)勢(shì)在于其對(duì)薄膜厚度、成分和微觀結(jié)構(gòu)的精確控制，使其成為光電器件制造的重要手段。二、光電器件中的應(yīng)用太陽(yáng)能電池在光伏行業(yè)中，CVD被廣泛應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)能電池的制造。通過(guò)CVD技術(shù)，能夠在基板上沉積高質(zhì)量的硅薄膜，顯著提升光電轉(zhuǎn)換效率。研究表明，采用CVD沉積的非晶硅和多晶硅薄膜在性能上優(yōu)于傳統(tǒng)的晶體硅太陽(yáng)能...
2024-09-09
混合箱式爐的操作指南與維護(hù)技巧說(shuō)明
混合箱式爐是一種高效、節(jié)能的加熱設(shè)備，廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域。為了確保其安全、穩(wěn)定地運(yùn)行，以下將詳細(xì)介紹的操作指南與維護(hù)技巧。一、操作指南1.開(kāi)箱檢查在使用前，請(qǐng)仔細(xì)打開(kāi)包裝并進(jìn)行全面檢查，確保爐體、控制系統(tǒng)及附件完好無(wú)損。2.安裝與調(diào)試按照廠家提供的安裝說(shuō)明進(jìn)行安裝，并確保電源電壓與爐體額定電壓相符。接通電源后，進(jìn)行空載試運(yùn)行，觀察爐體運(yùn)行是否正常。3.加熱操作根據(jù)工藝要求設(shè)定加熱溫度和時(shí)間。加熱過(guò)程中，請(qǐng)勿觸摸爐門(mén)及加熱元件，以防燙傷。達(dá)到設(shè)定溫度后，需等待一段...
2024-08-27
真空管式爐的工作原理與基本構(gòu)造是怎樣的？
真空管式爐是一種在真空或受控氣氛環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行熱處理的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于金屬材料、陶瓷、化合物等材料的燒結(jié)、熱處理和分析。其工作原理與基本構(gòu)造是理解其性能和應(yīng)用的關(guān)鍵。它的核心工作原理是利用電阻加熱元件在真空或保護(hù)氣氛中對(duì)樣品進(jìn)行加熱處理。工作過(guò)程主要包括真空獲得、加熱、冷卻三個(gè)階段。在真空獲得階段，通過(guò)真空泵系統(tǒng)將爐內(nèi)氣體排出，形成負(fù)壓環(huán)境，以減少氣體分子對(duì)樣品的干擾和污染。加熱階段是通過(guò)電流流經(jīng)爐內(nèi)的加熱元件，產(chǎn)生焦耳熱，使?fàn)t內(nèi)溫度升高至設(shè)定值。冷卻階段則通常采用自然冷卻...
2024-08-14
真空燒結(jié)爐的常規(guī)注意內(nèi)容
高真空坩堝熔煉爐可用來(lái)熔煉各種易氧化金屬，如鋁，金，鋰，鎂等。其主要供大專(zhuān)院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。特點(diǎn)：采用電阻絲加熱，可在1100℃長(zhǎng)期工作直徑Φ50mm石英管，CF密封法蘭，爐管內(nèi)真空度可達(dá)10-6Torr（分子泵系統(tǒng)）采用PID方式控溫，控溫精度為+/-1℃爐管：?jiǎn)味朔饪诟呒兪⒐芡鈴剑?Phi;50mm（偏差&plusm...
2024-07-25
真空氣氛管式爐的節(jié)能減排特性分析
現(xiàn)在大家對(duì)環(huán)保意識(shí)日益增強(qiáng)，節(jié)能減排已成為各行各業(yè)的重要發(fā)展方向。在材料熱處理領(lǐng)域，真空氣氛管式爐憑借其節(jié)能減排特性，受到了廣泛關(guān)注。一、工作原理真空氣氛管式爐是一種采用真空技術(shù)進(jìn)行材料熱處理的設(shè)備。在真空環(huán)境下，通過(guò)加熱元件對(duì)爐膛內(nèi)的材料進(jìn)行加熱處理，同時(shí)通過(guò)氣氛控制系統(tǒng)保持爐內(nèi)氣氛的穩(wěn)定，從而實(shí)現(xiàn)材料的退火、淬火等熱處理工藝。二、節(jié)能減排特性分析高效節(jié)能：采用真空技術(shù)，有效降低了爐內(nèi)熱量損失，提高了熱效率。同時(shí)，采用先進(jìn)的加熱元件和控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)快速升溫、精確控溫，進(jìn)一...

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